品牌：LBTek
型號 :
DOE
LBTEK‑焦點整形 DOE 係一種將設計相位刻寫於高透雙折射材質中，以繞射光學原理為基礎，對入射光束實現 Z 軸方向長焦深、多焦點或環形整形效果之繞射光學元件。
‑ 長焦深 DOE 可依據系統參數彈性設計焦點大小與焦深參數；多焦點 DOE 可依據系統參數彈性設計焦點數量、間距以及能量分佈。兩者常應用於透明脆性材料切割，可改善錐角、崩邊等切割品質問題；空間多焦點整形亦可使用於倒角切割，提升切割製程效率並降低成本。
‑ 環形 DOE 可彈性設計環寬與內外徑，還可增加中心能量點，改善大圓環能量中空的狀況。廣泛用於增材製造產業 SLM 製程，最佳化雷射熔池、提升 3D 列印加工效率，亦適用於鑽孔、焊接等相關應用。
| 參數項目 | 規格數值 | 參數項目 | 規格數值 |
|---|---|---|---|
| 元件材質 | 液晶聚合物 / UVFS 視窗片 | 反射率 | Ravg ＜ 0.5%（0° 入射角）@工作波長 |
| 元件尺寸 | Ø25.4 × 3.2 mm | 入射角（AOI） | ± 20° |
| 通光孔徑 | Ø21.5 mm | 透射波前差 | ＜λ/4 @ 633 nm |
| 中心偏移量 | ＜ 0.5 mm | 透射光偏轉（未安裝機械外殼） | ＜ 1 arcmin |
| 表面光潔度（劃痕 / 麻點） | 40/20 | 延遲量 | λ/2 |
| 工作溫度 | -20~60℃ | 延遲量精度及均勻性 | ±5 nm |
- 平板結構，體積小，易整合
- 透射式元件，能量利用率高
- 環形、長焦深、多焦點效果可選
